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上海中微反击美国应用材料诉讼
2008-01-11 07:49:34  作者:zhengycn摘录  来源:

  王如晨

  一场诉讼,正将本土半导体设备企业上海中微推向全球公众视野。这家企业的董事长尹志尧昨天在上海首次公开回应说:“美国应用材料公司(下称‘应材’)的举动是在混淆视听。”他对《第一财经日报》说。他还表示,已聘请全美最著名的两家律师事务所,将积极应诉。

  应材在“混淆视听”

  此前,应材在美国加州对中微提出控告,理由是后者窃取其商业机密开发了半导体设备。

  应材在诉状中说,尹志尧辞去应材副总裁兼CTO前,一直管理等离子蚀刻产品团队,参阅过“大量敏感信息和商业机密”,而中微副总裁陈爱华之前担任另一产品经理,熟悉相关专利。他认为,中微如此短时间开发两款设备,显然侵犯了其商业秘密。它也因此认为,中微在美、日等地申请的两项专利,应归它所有,因为此前公司与中微4名高管签过协议,规定任职期间与离开后1年内的专利归于应材。

  尹志尧表示,1984年开始,他就先后在英特尔、美国泛林半导体、应材主持等离子刻蚀技术,但这并不意味着中微技术来源于应材。至于陈爱华,其在应材相关部门做的设备,在类别与中微设备有明显不同。

  关于专利,尹志尧说应材“完全在推理”,因为其中之一与应材的领域完全无关,而另一项则是基于公开教科书而做的发明。在协议与专利关系上,尹志尧透露,应材有意删掉一个条件,即协议并未规定,4名高管与应材工作无关的专利也归应材所有。

  “应材这么做,一定程度上让不明真相的人以为,一些中国人拿了美国的好东西。”尹有些不平地说。他还补充说,全球半数以上的等离子刻蚀技术都与他有关,他目前拥有大约85项(包括正在申请中的)专利。

  背后的竞争

  双方诉讼的背后,是一种显而易见的商业竞争。中微前不久发布的两类设备,正在中芯国际等多家企业中试运行,这直接威胁到应材的利益。

  尹志尧透露了两类设备的巨大市场。一条12英寸生产线,如果产能为5万片,至少需要70台化学薄膜设备、70台等离子刻蚀设备,总价至少4亿美元。未来5年,仅此两项设备的年增长率,至少在10%以上。而目前能研发、生产两类设备的企业,全球分别只有3家。

  在技术基础上,尹志尧认为,中微基于亚洲运营的商业与产品策略已对应材构成足够挑战。他说,全球半导体产业已进入成熟期,产业链其他环节均正加速向亚洲尤其中国迁移,而设备业却一直固守原地,这对整个产业发展十分不利,而这也正是他离开应材创立中微的主要原因。

  尹志尧表示,公司正在积极应对,而这种诉讼往往大公司败诉的多。

  不过,一位半导体产业人士表示,应材财力雄厚,恐怕不在乎输赢,拖住中微,影响其客户关系才是目的。尹志尧坦陈,应材的举动确实让部分客户有了一点疑虑,不过公司有足够信心赢得胜利。

  “我们马上将完成第三期融资,大约9000万美元。”他透露,未来公司将寻求在美国或欧洲上市。此前三年,它两期融资额为1.1亿美元。


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